该晶圆制作业厂地属华南地区，一般制作8屏幕尺寸半导体器件晶圆，日访问量污废水 的占有量下跌约800吨。在制作操作过程中安全使用广泛氢氧化钠通过晶圆蚀刻，使得污废水 中氟化物浓度值高达hg200-300mg/L，远超地区的排污要求（10mg/L下面的）。 废水处理工艺化学物质及因素 污废水 主要出自三种阶段： 晶圆蚀刻制作工艺 ：含高酸度氟化物（HF）、硝酸钠及少量出巨资属 生物机械装备cnc精密机械加工（CMP）废污水 ：含納米级硅粉末、可挥发络合剂 产品除垢废水处理 ：含异丙醇、挥发酚等有机会物 工作工艺设计标准流程 使用"药剂学沉淀自己物中+水泥混凝土沉淀自己物中+程度进行过滤"三級进行处理系统： 4级处里 ：污泥脱水氯化钙和氢空气氧化钙，变成氟化钙沉淀出的，氟化物出掉率达85% 三级进行处理 ：增添PAC（缔合氯化铝）和PAM（PP酰胺），祛除电解质溶液态的污物 二级外理 ：能够 多物质过滤装置器和可溶性炭吸附剂，出液氟化物盐浓度稳定的在8mg/L以內 至关重要设施设备包涵：pH手动可以调节系统、斜管积淀池、板框刮刀离心机（淤泥缺水）。 后面功效 产品运转几年监测方案数值现示： 氟化物最低值质量浓度：7.2mg/L（小于发达标准规范） COD我们要除率：92% 淤泥含水分率：≤65% 年回收分类处理氟化钙副食品约150吨，达到资源量化进行