某半导体技术研发企业的因晶圆清洁工艺技术诞生含氨废气，容量200吨/天。废气中除挥发酚外还带有氟化物和氢化物发生器天价属，外理難度大。当地人排放出的标准需求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理工艺组成及渠道 晶圆的清洗污水（主耍来历）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀加工过程废渣：含少量铜、镍等巨资属，pH值下降大 CMP抛光污水：含硅粉末及氧化还原电位 进行处理工艺流量流量 所采用"有机化学悠长岁月中+膜隔离+折点氯化"组装加工： 预清理 ：加药系统CaCl2除氟，设定pH在7.5-8. 反渗透膜系统 ：清理0.01μm这些粒状物 反加入高浓 ：将氟化物溶缩至1000mg/L超过 折点氯化 ：透彻设定氯污泥脱水量，将氟化物还原成为惰性气体 铁离子互换 ：质量保障巨资属合格 然后疗效 挥发酚稳固＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含碳量不低于检侧限 水循环率达75% 厌氧颗粒污泥造成量少40%