半导体芯片加工废水怎么处理|半导体芯片加工废水如何处理
内容游戏 背景
该光电器件工业企业坐落长角形中北部,重要产量84厘米和124厘米晶圆,日摆放废出水量约2000吨。原因产量制作工艺简化,废水下有效多难降解塑料有机化学物和天价属铁离子,民俗处置的方法得以能够满足愈发严格的的摆放标准单位。
废水处理工艺物质及由来
污水大部分特征于四位教学环节:晶圆打磨污水具有刺激性大批量硅粉和打磨液无残留;化学反应机戒打蜡 污水中含电解质溶液硅和碾磨颗粒剂;刻蚀的清洗污水具有刺激性氟化物、铜正离子等巨资属;光刻的工艺污水则具有刺激性光阻剂等巧妙弄脏物。土质优点是COD高(800-1500mg/L)、氟化物含量高(200-400mg/L)、悬屏物多且具有刺激性少量巨资属。
办理的工艺操作流程
所采用"物理预进行工作+生化学进行工作+深度1进行工作"的组合成方法:
设定池匀衡水质检测出水量
水泥混凝土积累洗去悬停物和橡胶胶体部分有机化合物
化工奠定法帮忙解决氟化物,加药系统钙盐出现氟化钙奠定
蛋白质水解硝化作用池增进废污水可生物化性
接处氧化反应池溶解巧妙污染破坏物
过滤性炭过滤塔去广度清理
膜分離系统有效确保满水后水环境稳定可靠
涉及含铜废渣独立放置铝离子交流体系,回笼有价值观的金属材质铜。
然后使用效果
项目流程建于后开机运行稳固,溢水COD<50mg/L,氟化物渗透压<5mg/L,铜阳离子渗透压<0.3mg/L,某项标准规范均不同于祖国《電子工农业水被废水产生标准规范》(GB 39731-2020)。几乎每年可减低COD产生约300吨,氟化物产生约50吨,收废铜铝合金约2吨,实现目标了情况效率与社会经济效率的互赢。